金刚石抛光液包括聚晶、单晶和纳米3种不同类型的抛光液。金刚石抛光液由金刚石微粉、复合分散剂和分散介质组成,配方多样化,对应不同的研抛过程和工件,适用性强。产品分散性好、粒度均匀、规格齐全、质量稳定,广泛用于硬质材料的研磨和抛光。
金刚石抛光液,将水基纳米金刚石用于硅片抛光。用海藻酸钠、羧甲基纤维素钠、活性剂以及去离子水配制抛光液。对**分散纳米金刚石抛光硅片进行了研讨,并对干法抛光和抛光波湿法抛光进行了比照。干法抛光液使硅片粗糙度Ra从107nrn降到4nm。运用水基纳米金刚石抛光液湿法抛光,抛光效率更高,并且硅片的粗糙度更小,到达4nrn。
金刚石抛光液加工方式:
精磨、中磨、粗磨、倒角、抛光加工等。
金刚石抛光液,一种水基纳米金刚石抛光液经过去离子水中加入纳米金刚石、改性剂、分散剂、**分散剂、pH调理剂、润湿剂、具有化学作用的添加剂经过超声搅拌将纳米金刚石分散成20~100nm的小体,制成抛光液。用于各种光电子晶体、计算机硬盘基片、光学元器件及铜衔接的半导体集成电路等的**精细抛光。用于硅片抛光,外表粗糙度达0.214nm。
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